半導體和微電子

戈爾技術為整個敏感的制造流程帶來進步。

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隨著半導體的尺寸越來越小,對于工藝純度的需求也不斷提升。戈爾提供墊片、過濾器和電纜,保持工藝的純度,另外還有 EUV 光刻技術的全新開發成果,幫助制造商為將來做好準備。

概述

微芯片可以做到多小?數十年以來,隨著智能手機、筆記本電腦、LED屏幕和其他電子產品的微芯片越來越小,技術行業的制造商不斷壓縮半導體的尺寸。半導體的線寬已經從微米擠壓到了納米級別,同時還實現了更高的處理能力和記憶能力。一納米是一米的十億分之一,100,000納米并排才有人類頭發直徑粗細。?

這是摩爾定律的基礎,即一個集成電路上的晶體管數量每兩年就會翻一番。戈登·E·摩爾于1965年提出了這個大膽的說法,而時至今日,這條定律都一直生效。

但是,摩爾定律會繼續有效嗎?可能有兩個問題會拖慢半導體的發展腳步:生產更小、更強大的半導體成本高昂,制造和加工半導體時需要更高的純度。極小的外界微粒就可能對這些微觀半導體造成水缺陷;而這樣的缺陷可能降低良率,需要成本高昂的維護時間。?

簡而言之:隨著半導體線寬縮小,生產成本和純度難度會越來越高。

長期以來,戈爾一直是不斷突破這些挑戰的技術公司的合作伙伴。我們提供高流率的過濾器、微過濾介質、電纜和各種密封解決方案,保障工藝無縫、安全地進行。我們的聚四氟乙烯(PTFE)材料呈化學惰性,經久耐用,可為半導體制造商提供無可置疑的純度。

技術行業依賴聚四氟乙烯(PTFE)等含氟聚合物實現清潔度和化學兼容性。隨著半導體進一步縮小,制造商將需要在利用聚四氟乙烯(PTFE)薄膜創新方面取得幫助,以便讓微芯片變得更智能、更快、更小——而戈爾已經找到了滿足這一需求的方法。

著眼未來:EUV 微影技術電纜

半導體的下一個重大新興科技是遠紫外(EUV)微影技術,這種工藝可以在半導體晶圓中刻寫更多電路。在光刻技術系統中,光線將圖像傳輸到硅上,就如同照相機利用光線將圖像傳輸到膠片上一樣。EUV光刻技術被視作計算機芯片的未來;其可以產生更短的波長,允許在一個芯片上容納更多電路。

雖然半導體行業仍然需要消除這一新方法帶來的挑戰,但戈爾正在放眼未來。2009 年,一家光學系統制造商委任戈爾為長期合作伙伴,以便為EUV光刻技術系統運轉所必不可少的超高真空、低壓和超潔凈環境提供適用的電纜組件。?

因為我們從早期即投入開發新EUV工藝使用的電纜接頭,我們在制造商采納新方法時已經做好了協助準備。GORE?電纜降低了集塵問題,提升了系統性能和良率;無屏蔽和化學惰性的電纜是專門針對潔凈室使用而設計的。我們針對EUV光刻技術的全新系列電纜組件具有超低釋氣率,可防止超高真空環境下的組件受到可能導致凝結并污染計算機芯片的排放氣體的傷害。我們的電纜質量出眾,使戈爾成為市場上少數幾家可為EUV光刻技術提供清潔和測試產品的公司之一。?

即使有些制造商尚未準備好采納EUV光刻技術,戈爾也提供各種實現高性能、高潔凈的電纜,包括針對加工設備、測試和測量以及集成的高柔性、高數據率和微波射頻電纜。

基于純度的產品組合

由于半導體尺寸極小,即使最輕微的污染也可能損害其性能。?

戈爾的材料能讓半導體加工環境保持潔凈。通過采用聚四氟乙烯(PTFE)作為基礎,我們的材料呈化學惰性,可耐受極端溫度,并且經久耐用。我們的產品普遍比競爭對手的產品更小、更輕,是提升工藝良率和減少停機時間,以及成本的知名產品。

除了電纜和電纜組件之外,我們還提供:

  • 微濾過濾介質,提供薄膜和層壓兩種形式,可以集成到各種過濾外殼系統中。這些介質可支持當今微電子行業性能最高的過濾器。
  • 密封 解決方案,例如板狀墊片、密封墊片、帶狀墊片和GORE?接口密封件。每種產品均完全以膨體聚四氟乙烯(ePTFE),具有高抗蠕變和抗冷流性能,因此將一直保持固定,可靠密封。

35多年來,戈爾一直是全球技術創新領先企業的主要合作伙伴,為高標準、嚴要求的工藝提供戈爾品質的純度。隨著行業不斷適應技術趨勢的變化——智能手機和可穿戴設備越來越小,需要最小的半導體芯片——我們也將不斷創新,向技術公司提供關鍵的產品和支持,幫助他們縮小產品,提升利潤。

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